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隨著空氣潔凈度要求的提高，工藝對溫濕度的要求也越來越高，應(yīng)該達(dá)到一定的溫濕度等級。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。

潔凈室的溫濕度一般來說是根據(jù)您的加工工藝要求來確定，在滿足加工工藝的條件下，**需要思考人的舒適感。

直徑100微米的硅片，溫度上升1度，就導(dǎo)致了0.24微米的線性膨脹，因此一定得有±0.1度的溫度恒定，與此同時需求是的濕度值一般低一些，所以人在流汗之后，會對產(chǎn)品出現(xiàn)污染的情況，尤其是在半導(dǎo)體車間里，這樣的車間不要大于25度左右。假如濕度超過導(dǎo)致的問題更加多。相對濕度越過百分之五十的時候，冷卻水管壁上會凝結(jié)露水，假設(shè)發(fā)生在*密裝置又或者是電路里，就可能會導(dǎo)致不一樣的問題。

相對濕度在一半的時候較容易生銹。不過對于大部分潔凈空間里面，希望預(yù)防外部的污染情況，得保持內(nèi)部的壓強(qiáng)需要超過外面的壓強(qiáng)。壓力差的維持一般應(yīng)符合下列的一些原則：

1、潔凈度層級較高的空間的壓強(qiáng)需要超過相近的潔凈度層級較低的空間的壓強(qiáng)。

2、潔凈室的壓強(qiáng)要高于非潔凈空間的壓力。壓力的差距的維持依靠新風(fēng)量，這個新風(fēng)量要能補(bǔ)充在這一壓力差下從縫隙漏少掉的風(fēng)數(shù)量。因此壓強(qiáng)差的含義就是漏泄(或滲透)風(fēng)量通過潔凈室的各種縫隙時的阻礙。

3、連通的潔凈室里的門得開向潔凈層級相對高的空間內(nèi)。

對于亂流潔凈室因為主要憑借空氣的稀釋能力來減緩室內(nèi)污染的層級，因此主體是采取換氣數(shù)量這一問題，而不直接運用速率的理念，不過對室里氣體流動速度也有相當(dāng)?shù)男枨蟆?/p>